لنزهای پلانو-محدب درجه لیزری
توضیحات محصول
لنزهای پلانو-محدب درجه لیزری از جمله رایجترین اجزای نوری مورد استفاده در طیف وسیعی از کاربردهایی هستند که نیاز به کنترل پرتوهای لیزر دارند. این لنزها معمولاً در سیستمهای لیزری برای شکلدهی پرتو، موازیسازی و تمرکز برای دستیابی به نتایج خاص، مانند برش یا جوشکاری مواد، فراهم کردن حسگری با سرعت بالا یا هدایت نور به مکانهای خاص استفاده میشوند. یکی از ویژگیهای کلیدی لنزهای پلانو-محدب درجه لیزری، توانایی آنها در همگرایی یا واگرا کردن پرتو لیزر است. سطح محدب لنز برای همگرایی استفاده میشود، در حالی که سطح صاف آن صاف است و تأثیر قابل توجهی بر پرتو لیزر ندارد. توانایی دستکاری پرتوهای لیزر به این روش، این لنزها را به یک جزء کلیدی در بسیاری از سیستمهای لیزری تبدیل میکند. عملکرد لنزهای پلانو-محدب درجه لیزری به دقت ساخت آنها بستگی دارد. لنزهای پلانو-محدب با کیفیت بالا معمولاً از موادی با شفافیت بالا و حداقل جذب، مانند سیلیس ذوب شده یا شیشه BK7 ساخته میشوند. سطوح این لنزها با دقت بسیار بالایی، معمولاً در محدوده چند طول موج لیزر، صیقل داده میشوند تا زبری سطح که میتواند پرتو لیزر را پراکنده یا منحرف کند، به حداقل برسد. لنزهای محدب مسطح درجه لیزری همچنین دارای یک پوشش ضد انعکاس (AR) هستند تا میزان نور منعکس شده به منبع لیزر را به حداقل برسانند. پوششهای AR با اطمینان از اینکه حداکثر مقدار نور لیزر از لنز عبور میکند و مطابق هدف متمرکز یا هدایت میشود، کارایی سیستمهای لیزری را افزایش میدهند. لازم به ذکر است که هنگام انتخاب یک لنز محدب مسطح درجه لیزری، طول موج پرتو لیزر باید در نظر گرفته شود. مواد و پوششهای مختلف لنز برای طول موجهای خاصی از نور بهینه شدهاند تا عملکرد بهینه تضمین شود و استفاده از نوع اشتباه لنز میتواند باعث تحریف یا جذب پرتو لیزر شود. به طور کلی، لنزهای محدب مسطح درجه لیزری اجزای ضروری در انواع کاربردهای مبتنی بر لیزر هستند. توانایی آنها در دستکاری دقیق و کارآمد پرتوهای لیزر، آنها را به ابزارهای مهمی در زمینههایی مانند تولید، تحقیقات پزشکی و ارتباطات از راه دور تبدیل میکند.


مشخصات
بستر | سیلیس ذوب شده با اشعه ماوراء بنفش |
تلرانس ابعادی | -0.1 میلیمتر |
تحمل ضخامت | ±0.05 میلیمتر |
صافی سطح | 1 (0.5) @ 632.8 نانومتر |
کیفیت سطح | ۴۰/۲۰ |
لبهها | زمین، حداکثر 0.3 میلیمتر، تمام عرض پخ |
دیافراگم شفاف | ۹۰٪ |
مرکزگرایی | <1' |
پوشش | Rabs <0.25%@طول موج طراحی |
آستانه آسیب | ۵۳۲ نانومتر: ۱۰ ژول بر سانتیمتر مربع، پالس ۱۰ نانوثانیه 1064 نانومتر: 10 ژول بر سانتیمتر مربع، پالس 10 نانوثانیه |
